資料詳細

  • 1 件中、 1 件目

薄膜化技術 貸出可

和佐 清孝／著 -- 共立出版 -- 2002.6 -- 549.8

所蔵

所蔵は 1 件です。現在の予約件数は 0 件です。

所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 状態
９書庫 /549.8/ワ/ 8132289829 一般 館内有

ページの先頭へ

資料詳細

書名 薄膜化技術
著者名 和佐 清孝 ／著, 早川 茂 ／著  
出版者 共立出版
出版年 2002.6
ページ数 316p
大きさ 22cm
一般件名 薄膜
NDC分類(9版) 549.8
版表示 第3版
著者紹介 横浜市立大学理学部客員教授。共著に「強誘電性と高温超伝導」他。
内容紹介 原子スケールでの材料技術を特徴としている薄膜は、ナノスケール素材・デバイス形成の要素技術であり、エレクトロニクスや環境技術分野で重要である。基礎科学的視点を追加し、最新のデータを増補した、92年刊に次ぐ第3版。
ISBN 4-320-08613-9

ページの先頭へ