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    尾山宏
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ナノテクノロジーとレジスト材料 貸出可

山岡 亞夫／監修 -- シーエムシー出版 -- 2007.4 -- 549.7

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所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 状態
９②書庫 /549.7/ナ/ 8133378843 一般 館内有

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書名 ナノテクノロジーとレジスト材料
シリーズ名 CMCテクニカルライブラリー
著者名 山岡 亞夫 ／監修  
出版者 シーエムシー出版
出版年 2007.4
ページ数 6,253p
大きさ 21cm
一般件名 リソグラフィー , ナノテクノロジー
NDC分類(9版) 549.7
並列タイトル Nano Technology and Polymer Resist
内容紹介 ナノテクノロジーについて、トップダウンの技術とボトムアップ技術、およびこれらの中間に存在して、日常的に役立っているものについて取り上げる。また、それぞれの周辺の材料やプロセスに関して整理する。
ISBN 4-88231-921-4
ISBN13桁 978-4-88231-921-4

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