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石川真生
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1 件中、 1 件目
薄膜技術の新潮流
貸出可
平尾 孝/[ほか]共著 -- 工業調査会 -- 1997.7 -- 549.8
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所蔵場所
請求記号
資料コード
資料区分
状態
9書庫
/549.8/ヒ/
8130898222
一般
館内有
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資料詳細
書名
薄膜技術の新潮流
タイトル関連情報
多彩な新規応用をカバー
シリーズ名
ケイブックス
著者名
平尾 孝
/[ほか]共著
出版者
工業調査会
出版年
1997.7
ページ数
258p
大きさ
19cm
一般件名
薄膜
NDC分類(9版)
549.8
内容紹介
半導体、ディスプレイ、記録などのキーデバイスにおける、薄膜形成や微細加工技術の進展と技術レベルが、コストや性能を決定する。薄膜、加工技術の基礎から応用まで、最新情報を踏まえて解説する。
ISBN
4-7693-1157-5
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