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    陸軍-日本-書誌
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入門フォトマスク技術 貸出可

田邉 功／著 -- 工業調査会 -- 2006.12 -- 549.7

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所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 状態
９②書庫 /549.7/ニ/ 8133298573 一般 館内有

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書名 入門フォトマスク技術
タイトル関連情報 LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク
著者名 田邉 功 ／著, 竹花 洋一 ／著, 法元 盛久 ／著  
出版者 工業調査会
出版年 2006.12
ページ数 323p
大きさ 21cm
一般件名 リソグラフィー
NDC分類(9版) 549.7
並列タイトル Introduction to Photomask Technology
著者紹介 千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻卒業。(有)ITコンサルティング代表取締役社長。
内容紹介 半導体ならびに電子部品分野の技術に関係している方々を対象に、マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した参考書。半導体デバイスのみならず、FPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについても記述。
ISBN 4-7693-1259-8

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