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最新ガスバリア薄膜技術 貸出可

中山 弘／監修 -- シーエムシー出版 -- 2017.4 -- 549.8

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所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 状態
一般１階 /549.8/サ/ 8134786780 一般 館内有

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書名 最新ガスバリア薄膜技術
タイトル関連情報 ハイグレードガスバリアフィルムの実用化に向けて
シリーズ名 エレクトロニクスシリーズ
著者名 中山 弘 ／監修, 小川 倉一 ／監修  
出版者 シーエムシー出版
出版年 2017.4
ページ数 7,232p
大きさ 26cm
一般件名 薄膜
NDC分類(9版) 549.8
並列タイトル Advanced Thin‐Film Processes for Gas‐Barrier Films:Toward the Industrialization of High‐Grade Gas‐Barrier Films for Electronics
内容紹介 ガスバリア薄膜技術の基礎をはじめ、低温真空成膜技術、高速真空成膜技術、真空ロールツーロール成膜技術について解説。ガスバリア性評価技術、ハイガスバリア性達成への技術開発例と課題などにも触れる。
ISBN 4-7813-1196-8
ISBN13桁 978-4-7813-1196-8

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